HiClave 自動(dòng)化高壓反應(yīng)系統(tǒng)以模塊化的形式構(gòu)建， 包含高壓反應(yīng)釜、加熱冷卻系統(tǒng)、磁力攪拌系統(tǒng)、多種形式的氣體、液體給料系統(tǒng)在內(nèi)個(gè)多種組件，用于氧化反應(yīng)、氫化反應(yīng)、羰基化反應(yīng)、聚合反應(yīng)等反應(yīng)全自動(dòng)化控制。

1、Hitec Zang 高壓反應(yīng)釜

Hitec Zang 高壓反應(yīng)釜，具有以下特點(diǎn)：

ü  10 ml 到 250 ml 的反應(yīng)器

ü  壓力高達(dá)300 bar

ü  溫度高達(dá)300 °C

ü  純金屬蓋密封

ü  重量加料

ü  磁力攪拌器或磁耦合的頂部攪拌器

其中100-250ml高壓反應(yīng)釜，采用螺絲擰緊的法蘭蓋，帶7個(gè)接口，其中3個(gè)接口在蓋外面易于連接，中心的連接是磁力耦合的攪拌頭。反應(yīng)釜由不銹鋼或者合金制作，可以通過加熱套加熱，通過冷卻板或者內(nèi)部冷卻回路進(jìn)行冷卻。攪拌采用磁力攪拌頭，可選40或80Ncm扭矩。

儀器有電加熱套的加熱，磁力攪拌頭的攪拌，溫度控制器。

連接件有：1個(gè)攪拌用軸，1根溫度控制的浸入管，1個(gè)金屬片，用于壓力下的安全限制。1個(gè)壓力顯示，1個(gè)減壓閥，1個(gè)自由支配的，可用于氣體取樣或者液體取樣。

可選項(xiàng)包括：氣體注入模塊，液體或氣體取樣，通過冷卻板或冷卻環(huán)的冷卻，哈氏合金或其他合金。

2、Hitec Zang 高壓反應(yīng)釜自動(dòng)化系統(tǒng)

Hitec Zang 高壓反應(yīng)釜系統(tǒng)用于高壓下的反應(yīng)，尤其是多相的反應(yīng)系統(tǒng)?？刹捎?span>10-250ml的反應(yīng)器，max壓力可達(dá)300bar或400bar, max溫度可達(dá)300或400℃，由于使用純金屬的壓力密封蓋，該系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)精確測(cè)量氣體的消耗量。多種加熱、冷卻系統(tǒng)、磁力攪拌系統(tǒng)及體積或者重量的氣體或液體給料系統(tǒng) ，都可配備。HiClave 系統(tǒng)可以是單個(gè)或者多個(gè)平行反應(yīng)系統(tǒng)，除標(biāo)準(zhǔn)配置外，定制化的設(shè)計(jì)可滿足客戶多種需求。

加氫反應(yīng)模塊可實(shí)現(xiàn)：

ü  惰性氣體的自動(dòng)沖洗

ü  自動(dòng)密封性試驗(yàn)

ü  用MFC測(cè)量氣體消耗量

ü  數(shù)值的記錄

ü  可選獨(dú)立使用設(shè)備

除高壓平行反應(yīng)，還有其他類型的平行反應(yīng)系統(tǒng)，可以實(shí)現(xiàn)：

ü  個(gè)性化、高動(dòng)態(tài)的溫控系統(tǒng)

ü  模塊化 & 靈活性

ü  全自動(dòng)系統(tǒng)

ü  250 , 400 ml

ü  簡(jiǎn)便快速處理

自動(dòng)化平行反應(yīng)系統(tǒng)的特點(diǎn)：

ü  一個(gè)電腦及軟件可控制多個(gè)系統(tǒng)

ü  反應(yīng)器參數(shù)的全自動(dòng)化控制，如進(jìn)料速度，溫度、壓力、PH及攪拌等

ü  單個(gè)反應(yīng)器*獨(dú)立的操作條件

ü  多種給料方式可選（液體、固體和氣體、重量和體積等）

ü  自動(dòng)化取樣可選

ü  惰性材料：玻璃、聚四氟乙烯

ü  多個(gè)單獨(dú)反應(yīng)器共用一臺(tái)冷卻器

ü  方便且快速的處理（更換反應(yīng)器<1分鐘）

ü  可單獨(dú)擴(kuò)展和升級(jí)

ü  24小時(shí)無人值守運(yùn)行