德國(guó)EVOCHEM蒸發(fā)材料技術(shù)綜述

在物理氣相沉積（PVD）領(lǐng)域，材料的選擇對(duì)薄膜性能有關(guān)鍵影響，德國(guó)EVOCHEM Advanced Materials GmbH的產(chǎn)品為此提供了多種選擇。

德國(guó)EVOCHEM Advanced Materials GmbH是一家致力于高純材料與薄膜材料研發(fā)與生產(chǎn)的德國(guó)企業(yè)。該公司為全球研發(fā)與工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域提供多種蒸發(fā)材料、濺射靶材及PVD相關(guān)耗材。

其產(chǎn)品線涵蓋純金屬、氧化物、氟化物等多種材料，用于光學(xué)鍍膜、微電子、半導(dǎo)體等多個(gè)領(lǐng)域。

01 品牌與產(chǎn)品概述

EVOCHEM Advanced Materials GmbH是一家位于德國(guó)的生產(chǎn)商，專注于高純材料與薄膜沉積材料。

該公司為物理氣相沉積（PVD）技術(shù)提供多種產(chǎn)品，其產(chǎn)品組合涵蓋各種蒸發(fā)材料、高效濺射靶材、晶體監(jiān)測(cè)儀、蒸發(fā)線圈以及PVD耗材（如坩堝、舟和細(xì)絲）。

公司提供純金屬和超純金屬產(chǎn)品，其純度范圍從99.00%至99.999999%。這些材料可用于光學(xué)涂層、耐磨裝飾涂層、微電子、半導(dǎo)體、光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、顯示器和太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域。

02 產(chǎn)品類型與型號(hào)

EVOCHEM提供多種形態(tài)的蒸發(fā)材料，包括 顆粒、片劑、線材、箔、片材、棒材、管材和靶材 等，以滿足不同沉積工藝的需求。

主要產(chǎn)品類型

EVOCHEM的產(chǎn)品范圍主要包括以下類型：

? 純金屬：如鋁、銻、硼、碳、銪等，純度高達(dá)99.9999%

? 氧化物：用于光學(xué)鍍膜等的氧化物材料

? 氟化物：如氟化鎂等

? 硼化物/碳化物：用于特定要求的涂層

? 硫化物/硒化物：可用于光電等領(lǐng)域

? 氮化物：如氮化硅等

? 碲化物：用于特種薄膜沉積

? 定制混合物：根據(jù)客戶需求定制的混合材料

? 疏水材料：如ETC系列超疏水涂層材料

? 貴金屬：包括金、銀等

主要產(chǎn)品型號(hào)

EVOCEM提供的主要產(chǎn)品型號(hào)包括以下：

? ETC-TOP：入門級(jí)疏水材料，接觸角大于105°

? ETC-PRO：用于眼科行業(yè)的專用疏水材料

? ETC-PRO UV+：具有較高耐氣候要求的納米涂層材料

? ETC-PRO AB+：具有較高耐用性和光滑性的疏水應(yīng)用材料

? Al（鋁粒）：高純度鋁蒸發(fā)材料

? SiO?（二氧化硅片）：用于光學(xué)鍍膜等的氧化物蒸發(fā)材料

? MgF?（氟化鎂錠）：氟化物蒸發(fā)材料

? Ti（鈦線）：鈦金屬蒸發(fā)材料

? Cr（鉻粒）：鉻金屬蒸發(fā)材料

? ITO（氧化銦錫片）：用于透明導(dǎo)電涂層等的材料

03 技術(shù)參數(shù)與工作原理

產(chǎn)品介紹與技術(shù)參數(shù)

ETC-TOP疏水材料是EVOCHEM ETC產(chǎn)品系列中的入門級(jí)產(chǎn)品，具有高耐磨性和易清潔特性。其技術(shù)參數(shù)包括：

? 蒸發(fā)溫度范圍：400 - 800°C（推薦600°C）

? 腔室壓力：<4×10?? mbar

? 涂層厚度：約10至20納米

? 襯底溫度：AR涂層CR39玻璃60℃

? 存儲(chǔ)條件：未開(kāi)封時(shí)6個(gè)月，陰涼干燥條件下

? 涂覆后固化條件：24小時(shí)@25℃或30分鐘120攝氏度

? 純金屬蒸發(fā)材料如鋁、鈦等，可提供較高的純度（高達(dá)99.9999%），并有顆粒、線材等多種形態(tài)可選。

工作原理

EVOCHEM的蒸發(fā)材料主要用于物理氣相沉積（PVD）工藝。PVD是一種沉積過(guò)程，蒸發(fā)材料在真空或低壓環(huán)境中從固體源通過(guò)熱蒸發(fā)或電子束轟擊等方式轉(zhuǎn)化為氣態(tài)。

這些氣態(tài)原子或分子隨后以蒸汽形式傳輸?shù)交灞砻?，并在其上冷凝形成薄膜涂層?/span>

對(duì)于疏水材料如ETC-TOP，其作用機(jī)制是通過(guò)材料分子的一端與氧化物表面（如SiO?）形成共價(jià)鍵，另一端（全氟化）則遠(yuǎn)離表面對(duì)齊，從而降低表面能，產(chǎn)生易于清潔的特性。

04 核心特點(diǎn)

EVOCHEM蒸發(fā)材料具有以下幾個(gè)特點(diǎn)：

? 材料純度選擇多：產(chǎn)品提供從工業(yè)級(jí)到科研級(jí)的多種純度選擇（99.00% - 99.999999%），以適應(yīng)不同應(yīng)用場(chǎng)景對(duì)材料純度的要求。

? 產(chǎn)品形態(tài)多樣：根據(jù)蒸發(fā)源和設(shè)備類型，提供顆粒、片劑、線材、錠料、箔、片材、棒材、管材和靶材等多種物理形態(tài)，便于用戶在不同沉積工藝中使用。

? 工藝穩(wěn)定性：材料具有較低的噴濺特性，有利于獲得低缺陷涂層。例如，ETC系列片劑的設(shè)計(jì)允許穩(wěn)定和受控的涂層工藝，從而實(shí)現(xiàn)每次涂層運(yùn)行的產(chǎn)量。

? 符合環(huán)保規(guī)范：產(chǎn)品符合相關(guān)立法要求，如ETC系列產(chǎn)品不含全氟辛烷磺酸（PFOS）和全氟辛酸（PFOA），并可提供相應(yīng)的材料安全數(shù)據(jù)表(MSDS)和符合RoHS指令的證書。

05 應(yīng)用領(lǐng)域

EVOCHEM蒸發(fā)材料的應(yīng)用領(lǐng)域主要包括以下五個(gè)方面：

? 光學(xué)鍍膜：用于眼鏡片、相機(jī)鏡頭、激光鏡片上的增透膜（AR涂層）、高反射膜等。ETC系列疏水材料可應(yīng)用于這些光學(xué)元件的表面保護(hù)。

? 微電子與半導(dǎo)體：用于半導(dǎo)體元件中電極的金屬鍍層、集成電路中的絕緣層或介質(zhì)層。高純度金屬和氧化物材料在此領(lǐng)域有應(yīng)用。

? 顯示技術(shù)與太陽(yáng)能電池：用于薄膜太陽(yáng)能電池板中功能層的制備，以及顯示器中的透明導(dǎo)電涂層（如ITO）。

? 裝飾與耐磨涂層：用于手機(jī)外殼、手表等消費(fèi)品表面的裝飾性及耐磨涂層，提高產(chǎn)品的美觀度和耐用性。

? 研發(fā)與實(shí)驗(yàn)：各大院校、研究機(jī)構(gòu)進(jìn)行新材料、新工藝的探索與開(kāi)發(fā)，利用EVOCHEM提供的高純度材料和多種材料選擇進(jìn)行科學(xué)研究。

EVOCHEM的ETC系列疏水材料，如ETC-TOP，在光學(xué)鏡片上應(yīng)用時(shí)，能表現(xiàn)出大于105°的接觸角，并具有良好的耐磨特性。

隨著新材料和新工藝的涌現(xiàn)，對(duì)薄膜材料性能的要求也在不斷提升。EVOCHEM Advanced Materials GmbH通過(guò)提供多種純度和形態(tài)的蒸發(fā)材料，為不同領(lǐng)域的薄膜制備提供了選擇。